太阳能硅片雷士超声波清洗机
技术参数
电源电压：220V
超声波功率：12KW
超声波频率40KHz
加热功率：6kw/槽
性能特点
1、利用超声波空化作用，并且设计各槽上下抛动，使污垢彻底脱落；
2、根据清洗工艺设置超声波电控箱，PLC全程控制，操作简便；
3、槽子底部设有接渣口，沉淀污垢及时排渣；
4、适当加入弱碱，加快清洗的速度，提高清洗的效率
太阳能光伏专用设备 ，包括制绒酸洗设备、去磷硅玻璃（PSG）、扩散炉、刻蚀机、硅片清洗机、硅芯硅料清洗机等，
清洗范围：
半导体硅片、太阳能电池硅片、晶体、电阻、电容、PCB板、IC芯片、接插件、连接件、转接器、硅片、三极管、二极管、电子线路板、电脑主板、压电陶瓷片、显象管、电真空器件等电子器件的生产加工过程工序间的清洗。
清洗原理
借助于表面活性剂的润湿、渗透、乳化、增溶、分散等作用, 使沾污在Si片表面的附着力削弱, 再施以加热、超声波等物理方法, 使沾污脱离 Si片表面, 而进人清洗液中被乳化 、分散开。
在清洗液中超声清洗Si片表面其原理可用“空化” 现象来解释: 超声波振动在液体中传播的音波压强达到一个大气压时, 其功率密度为O.35 W/cm, 这时超声波的音波压强峰值就可达到真空或负压, 但实际上无负压存在, 因此在液体中产生一个很大的压力, 将液体分子拉裂成空洞一空化核。此空洞非常接近真空, 它在超声波压强反向达到最大时破裂, 由于破裂而产生的强烈冲击将Si片表面的污物撞击下来，而这种由无数细小的空化气泡破裂而产生的冲击波现象称为“空化”现象。在超声清洗中, 表面活性剂也发挥着重要作用, 通过表面活性剂的乳化、分散作用, 可以显著削弱沾污对Si片表面的吸附, 从而获得好的清洗效果。
清洗溶剂：
环保型有机溶剂
主要特点：
1．推车式上下料，使用灵活方便；
2．采用单臂机械手，各工位清洗时间可按工艺要求调整；
3．投入式超声震板，超声功率连续可调并显示，
4．超声频率可微调，配有扫描电路，可单独控制；
5．进出口处及设备顶部设有抽风装置，防止溶剂散发到工作环境；
6．配有清洗篮旋转装置，满足细微产品清洗要求；
7．采用自吸水泵添加溶剂，更换溶剂方便快捷；
